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2004年10月19日 |
第15回マイクロマシン展のご案内
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会 期： 2004年11月10日(水)〜12日(金)
会 場： 科学技術館 [東京・北の丸公園]
拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。
さて、当社は本年度も平成16年11月10日より開催されます「第15回マイクロマシン展」に出展させていただく事となりました。これもひとえに皆様方のご支援ご協力の賜と深く御礼申し上げます。
つきましては招待状(展示会無料登録券)を同封いたしましたので、ご多忙中恐縮ではございますが、万障お繰り合わせの上、当社ブース(No.4-30)へのご来場賜りたくご案内申し上げます。
今回は、新たに開発しました光式/熱式両用インプリント装置『LTNIP-5000』、厚膜用の膜厚測定装置 『KT-22』、プロキシミティ露光装置対応シミュレータ 『ProxSim I』の実機を展示しご紹介いたします。また、コンタクト/プロキシミティ対応マスクアライナ 『Q4000/UL7000』シリーズ、レジスト塗布/現像装置 『LITHOTRAC』シリーズ、レジスト現像特性解析装置 『RDA790』のパネルを展示しご紹介いたします。この機会にご意見ご質問などもお待ち致しておりますので、是非お立ち寄り下さいますようご案内申し上げます。
敬具
平成16年10月吉日
リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一 |
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