 |
 |
2004年11月02日 |
セミコン･ジャパン2004のご案内
|
会 期： 12月1日から12月3日
拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
平素は格別のお引き立てを賜り、有り難く厚く御礼申し上げます。
さて、本年も弊社はセミコン･ジャパン2003に出展させていただく事となりました。これもひとえに皆様方のご支援ご指導の賜と、衷心より厚く御礼申し上げる次第でございます。つきましては、ご多用のところ誠に恐縮ではございますが、当社ブース（ホール6A-601）へのご来場の栄を賜りたく、ご案内申し上げます。
今回は、以下の製品を展示いたします。
[展示品]
■ マニュアルベーク LWBシリーズ（LWB 03）
■ 193nm液浸露光対応QCM解析装置（IMESq-5500）
■ 米国Foothill社製 超厚膜レジスト測定装置（KT-22）
■ 米国LITEL社のステッパ･レンズ収差測定システム ISI
[パネル展示]
□ マニュアルベーク LWBシリーズ
□ マニュアルコーター LSCシリーズ
□ 自動コーターベーク Lithotracシリーズ
□ レジスト現像アナライザ RDA-800
□ QCM方式対応レジスト現像アナライザ RDA-Qz3
□ 193nm,157nm対応解析露光装置 VUVES-4500
□ 193nm液浸露光対応QCM解析装置 IMESq-5500
□ 電子線対応解析露光装置 EBES-6000
□ EUV光対応解析露光装置 EUVES-7000
□ 193nm対応2光束干渉液浸マイクロステッパ AMPHIBAN
□ 脱保護反応解析装置 PAGA-100
□ 米国QUINTEL コンタクト・マスクアライナ Model Q-4000シリーズ、
コンタクト/プロキシミティ・マスクアライナ Model UL-7000
□ 米国Benchmark TECHNOLOGIES ステッパ・フォーカスモニタ・システム
New: 米国Litel Instruments
□ DMAPTM：半導体露光装置レンズ歪み測定システム
□ TMAPTM：半導体露光装置レンズ透過率測定システム
□ ACE 2.0：ACEは測定システム（ISITM, SMITM, DMAPTM, TMAPTM）からの出力を個々の回路パターン関する解析へと変換するソフトです。
敬具
平成16年11月吉日
リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一 |
|
