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2005年 2月25日 |
Photomask Japan 2005 第12回ホトマスク技術展示会のご案内
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会 期: 2005年 4月13日(水)、14日(木)
会 場: パシフィコ横浜 アネックスホール
ブース番号: 41番
拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。
さて、当社は本年度も平成17年4月13日より開催されます「第12回ホトマスク技術展示会」に出展させていただく事となりました。これもひとえに皆様方のご支援ご協力の賜と深く御礼申し上げます。
ご多忙中恐縮ではございますが、万障お繰り合わせの上、当社ブースへのご来場賜りたくご案内申し上げます。
主な展示といたしましては、米国Benchmark TECHNOLOGIESのステッパー・フォーカスモニターレティクル、東芝PSGマスク等を展示いたします。
敬具
平成17年 2月吉日
リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一 |
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