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2005年 5月11日 |
第22回フォトポリマーコンファレンスのご案内
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会 期： 2005年6月22日（水）〜24日（金）
会 場： 千葉大学けやき会館（JR西千葉駅下車徒歩6分）、千葉県千葉市稲毛区弥生町1-33
出 展： パネル展示
拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。
さて、当社は本年度6月22日より開催されます「第22回フォトポリマーコンファレンス」に出展および一般講演での技術発表をさせていただくこととなりました。これもひとえに皆様方のご支援ご協力の賜と深く御礼申し上げます。
ご多忙中恐縮ではございますが、万障お繰り合わせの上、当社ブースへのご来場を賜りたくご案内申し上げます。
ブースでは、今回はパネルにて、193nm液浸露光対応QCM解析装置IMESq-5500と、熱・光インプリント評価装置LTNIP-5000のパネル展示を行います。
また、関連する学会発表も予定しております。こちらの方もご覧頂ければ幸いです。
Ａ．国際シンポジウム2005 マイクロリソグラフィ−とナノテクノロジ− −材料とプロセスの最前線−
6月23日
A-41 Study on polymer materials evaluation system for Nano-Imprint Lithography
6月23日
C-11 Profile simulation of SU-8 thick film resist
敬具
平成17年 5月吉日
リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一 |
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