【LTJからの最新情報】

	2006年 2月10日
nano tech 2006 国際ナノテクノロジー総合展･技術会議　出展のご案内
会　　　　期：　2006年2月21日（火）～23日（木）会　　　　場：　東京ビッグサイト東４･５･６ホールブース番号：　C-64 主　　　　催：　nano tech 実行委員会拝啓　時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。さて、当社は本年2月21日より開催されます「nano tech 2006」にてブースを出展させていただくこととなりました。これもひとえに皆様方のご支援ご協力の賜と深くお礼申し上げます。今回の展示では、光･熱両用インプリント装置「LTNIP-5000」とパターン転写技術MxLを紹介致します。新しい技術への弊社の取り組みをご覧いただきたく存じます。ご多忙中恐縮ではございますが、万障お繰り合わせの上、当社ブースへのご来場を賜りたくご案内申し上げます。敬具平成18年 2月吉日リソテックジャパン株式会社代表取締役　南　洋一