【LTJからの最新情報】

トップページ-->What's NEW--News050529

2006年 5月29日

第23回フォトポリマーコンファレンスのご案内

会　　期：2006年6月27日（水）～30日（金）
会　　場：千葉大学けやき会館（JR西千葉駅下車徒歩6分）　　　　
　　　　　千葉県千葉市稲毛区弥生町1－33
ブース　：パネル展示

拝啓　時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。

さて、当社はこの6月27日より開催されます「第23回フォトポリマーコンファレンス」に出展および一般講演での技術発表をさせていただくこととなりました。
これもひとえに皆様方のご支援ご協力の賜物と深く御礼申し上げます。
ご多忙中恐縮ではございますが、ご来場の際は万障お繰り合わせのうえ、当社ブースへお越し頂きたくご案内申し上げます。

ブースでは、

☆EUV解析露光装置		EUVES-7000
☆新型レジスト現像アナライザ		RDA-800
☆リソグラフィシミュレータ		Prolith

のパネル展示を行います。
また、関連する学会発表も予定しております。こちらの方もご覧頂ければ幸いです。

Room C．一般講演
6月30日
C-10 ネガ型厚膜レジストの架橋反応のモデリング

敬具

平成18年 5月吉日

リソテックジャパン株式会社
代表取締役　南　洋一