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2006年 9月13日 |
第17回マイクロマシン展のご案内
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拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。
さて、当社は本年度も平成18年11月7日より開催されます「第1７回マイクロマシン展」に出展させていただく事となりました。これもひとえに皆様方のご支援ご協力の賜と深く御礼申し上げます。
つきましては、ご多忙中恐縮ではございますが万障お繰り合わせの上、当社ブース(No.L-20)へのご来場賜りたくご案内申し上げます。
今回は、MEMSリソグラフィプロセスに関連しました下記装置をご紹介いたします。
| ・ 自動塗布/現像装置 |
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LITHOTRACシリーズ |
| ・ マニュアル塗布/現像装置 |
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Litho Spin Cupシリーズ |
| ・ マスクアライナ |
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Quintel MXQシリーズ |
| ・ 厚膜測定装置 |
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Foothill KV-300/KF-10 |
| ・ ウェーハ厚測定装置 |
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Foothill Si-71 |
| ・ UV/サーマルインプリント装置 |
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LTNIPシリーズ |
この機会にご意見ご質問なども直接お受けいたしますので、是非お立ち寄り下さいますようお願い申し上げます。
敬具
リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一 |
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