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2006年 11月15日 |
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| 開催期間 |
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2006年12月6日(水)〜8日(金) |
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| 開催時間 |
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10:00〜17:00 |
| 展示会場 |
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幕張メッセ |
| ブースNo. |
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4B−307 |
お客様各位
拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
平素は格別のご高配をたまわり厚くお礼申し上げます。
弊社では今年も【セミコンジャパン2006】に出展いたしますので、ご案内申し上げます。
会場では、リソグラフィに特化した解析･検査･製造のツール（コータ･デベロッパ、レジスト解析装置、露光装置用測定ツール、リソグラフィシミュレータ）を中心とした最新の製品をご紹介いたします。
また、新しいコンセプトのオートコータの実機も展示いたします。
さらに、今年から新たに販売を開始しました注目のEUV 露光･アウトガス解析装置『EUVES-7000OG』 と、ナノインプリント評価装置『LTNIPシリーズ』もご紹介いたします。
つきましてはご多忙のところ恐縮ではございますが、万障お繰り合わせの上、当社ブース【No.4B-307】へのご来場をたまわりたくお願い申し上げます。
敬具
平成18年11月吉日
リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一
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