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2007年 7月20日 |
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2007年8月29日（水）〜31日（金） |
| 開催時間 |
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10:00〜17:00 |
| 展示会場 |
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幕張メッセ |
| ブースNo. |
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6−407 |
お客様各位
拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
平素は格別のご高配をたまわり厚くお礼申し上げます。
弊社は今年創立15周年を迎えるにあたり大変お世話になったお客様のご期待に沿うべく、45年の歴史のある「分析展」に初めて製品を出品することに致しました。
会場では、以下の製品・サービスのパネル展示を行うと共に、装置も展示してご紹介します。
■レジスト現像アナライザ装置（実機展示）
■フォトプロセス解析用露光装置（実機展示）
■脱保護反応解析装置（パネル展示）
■非接触膜厚測定システムFoothill社製品（実機展示）
■受託測定・受託実験・受託研究サービス（パネル展示）
ご多忙のところ恐縮ではございますが、万障お繰り合わせの上、是非当社ブース【No. 6−407 】へのご来場を賜りますよう、宜しくお願い申し上げます。
尚、後日郵送にてご案内状をお送りいたしますが、下記URLにてお申し込みをすることも出来ます。
http://www.jaimashow.jp/
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また、３日間に渡り弊社ブースで、
弊社オリジナル帆布トート・エコバックを
お配りしておりますので、資料などを
入れていただければと存じます。
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敬具
平成19年7月吉日
リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一
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