| 開催期間 |
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2007年12月5日(水)〜7日(金) |
| 開催時間 |
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10:00〜17:00 |
| 展示会場 |
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幕張メッセ |
| ブースNo. |
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5A-301 |
拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
平素は格別のご高配を賜り厚くお礼申し上げます。
弊社では今年も【セミコンジャパン2007】に出展いたしますので、ご案内申し上げます。
会場では、リソグラフィに特化した解析･検査･製造のツール(コータ･デベロッパ、レジスト解析評価装置、プロセス解析用露光装置、露光装置用測定ツール、リソグラフィ・シミュレータ 等)を中心とした製品をご紹介いたします。
また、新機能を搭載したレジスト塗布装置・現像装置を展示実演いたします。
さらに、今年から新たに販売を開始しました注目のKLA-Tencor社製次世代用高信頼性OPC/RET最適化ツール『LithoWare』 をご紹介いたします。
つきましてはご多忙のところ恐縮ではございますが、万障お繰り合わせの上、当社ブース【No.5A-301】へのご来場を賜りたくお願い申し上げます。
敬具
平成19年11月吉日
リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一
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