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Litho Tech Japan News Release 2008年 6月2日

第25回フォトポリマーコンファレンスのご案内
会　期 ： 2008年6月25日（水）〜27日（金）
会　場 ： 千葉大学けやき会館（JR西千葉駅下車徒歩6分）
千葉県千葉市稲毛区弥生町1−33
ブース ： パネル展示

拝啓　時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。

さて、当社はこの6月25日より開催されます「第25回フォトポリマーコンファレンス」に出展させていただくこととなりました。
これもひとえに皆様方のご支援ご協力の賜物と深く御礼申し上げます。
ご多忙中恐縮ではございますが、ご来場の際は万障お繰り合わせの上、弊社ブースへのご来場を賜りたくお願い申し上げます。

ブースでは、
☆EUV解析用露光装置   EUVES-7000
☆新型レジスト現像アナライザ    RDA-800
☆リソグラフィシミュレータ   Prolith
☆193nmエキシマランプ
☆超薄膜対応膜厚測定装置 UTFTA-200
のパネル展示を行います。


敬具

平成20年 6月吉日

リソテックジャパン株式会社
代表取締役　南　洋一