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2008年 6月3日

第19回マイクロマシン/MEMS展のご案内

開催期間	：	2008年7月30日(水)～8月1日(金)
開催時間	：	10:00～17:00
展示会場	：	東京ビッグサイト　西１・２ホール
ブースNo.	：	W1-028
主　　催	：	財団法人マイクロマシンセンター

拝啓　時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
平素は格別のご高配を賜り厚くお礼申し上げます。

弊社では今年も【第19回マイクロマシン/MEMS展】に出展させていただくことになりましたので、ご案内申し上げます。
会場では、MEMSリソグラフィプロセスに関連しました自動塗布/現像装置、UV/サーマルインプリント装置、米国Foothill社製膜厚測定装置等の実機を展示し、ご紹介いたします。

ご多忙のところ恐縮ではございますが、万障お繰り合わせの上、弊社ブース【W1-028】へのご来場を賜りたくお願い申し上げます。

敬具

平成20年6月吉日

リソテックジャパン株式会社
代表取締役　南　洋一