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2008年 11月1日

【SEMICON Japan 2008】のご案内

開催期間	：	2008年12月3日(水)～5日(金)
開催時間	：	10:00～17:00
展示会場	：	幕張メッセ
ブースNo.	：	6A-301

お客様各位

拝啓時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
平素は格別のご高配を賜り厚くお礼申し上げます。

弊社では今年も【セミコンジャパン2008】に出展いたしますので、ご案内申し上げます。
弊社は、レジスト塗布／現像装置からレジスト解析装置やシミュレーションソフトまで、リソグラフィプロセス全般に関わる広い範囲で事業を展開しており、会場ではお客様のニーズを的確に捉えたタイムリーな開発による製品や優れた海外製品を展示させていただきます。

【実機展示製品】

■ 自動レジストコータ／デベロッパ
■ 厚膜レジスト膜厚測定装置
■ 超薄膜レジスト膜厚測定装置
■ 光リソグラフィ・シミュレータ

つきましてはご多忙のところ恐縮ではございますが、万障お繰り合わせの上、当社ブース【No.6A-301】へのご来場を賜りたくお願い申し上げます。

敬具

平成20年11月吉日

リソテックジャパン株式会社
代表取締役　南　洋一