【Photomask Japan 2009】第16 回ホトマスク技術展示会のご案内

拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。

さて、平成21年4月8日より開催されます「第16 回ホトマスク技術展示会」に出展させ ていただく事となりました。これもひとえに皆様方のご支援ご協力の賜と深く御礼申し上 げます。ご多忙中恐縮ではございますが、万障お繰り合わせの上、当社ブースへのご来場 賜りたくご案内申し上げます。

主な展示といたしましては、米国Benchmark Technologies社製のマスク・パターン検査装置E-Reticle™および KLA Tencor社製リソグラフィ・シミュレーションソフトPROLITH等を展示いたします。

E-Reticle™の製品説明

敬具

平成21年3月吉日

リソテックジャパン株式会社
代表取締役　南　洋一