| 開催期間 |
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2009年3月30日（月）〜4月2日（木）4日間 |
| 開催時間 |
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10:00〜17:00 |
| 展示会場 |
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筑波大学 第一体育館展示会場 |
| ブースNo. |
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1-26 |
| 主催 |
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株式会社 日刊工業広告社 |
お客様各位
拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
平素は格別のご高配をたまわり厚くお礼申し上げます。
弊社は来る2009年3月30日〜4月2日の4日間、筑波大学で行われる「2009年春季応用物理学会講演会 併設展示会」に下記装置を出展します。万障お繰り合わせのうえ、是非お越し頂ければ幸いです 。
1. 超薄膜対応膜厚計UTFTA-200 (Ultra Thin Film Thickness Analyzer)
【概要】
チャネルド分光エリプソ法の原理を用いた、レジスト膜、BARC膜、トップコート材、無機膜の膜厚測定システムです。チャネルド分光エリプソ法を
用いているため、従来、光干渉方式で測定できなかった超薄膜 (10nm 以下) の薄膜の膜厚測定が可能です。X-θステージを搭載し、基板面内の
全自動測定、測定結果のテキスト出力や、等高線マップ、鳥瞰図の表示が可能です。ArF液浸露光などのBARC膜やTC膜の膜厚測定、管理に最適です。
【仕様】
計測波長: 530-750nm
データ取り込み速度: 20ms (Siウェーハ上のSiO2 膜、スポットサイズ φ4mm)
膜厚計測範囲: 1nm-2000nm (Siウェーハ上のSiO2 膜)
スポットサイズ: φ1 x 4mm
ステージ: x −θ (ウェーハサイズ4-8 インチに対応)
出力: 測定結果のテキストデータ、等高線マップ、鳥瞰図など
2. 実験用ナノインプリント装置LTNIP-500
【概要】
実験用小型UVナノインプリント装置です。卓上型で、UVナノインプリントの実験に最適です。ホットプレートをオプションで搭載することで、
サーマルおよび、UVサーマルハイブリッド ナノインプリントの実験も可能となります。
【仕様】
加圧制御: サーボモーター搭載 0.1-10Mpa
露光ステージ: LED_UVランプ搭載1.6mW/cm 2＠waferスキャン露光機構あり
基板サイズ: 最大6インチSi ○
モールドサイズ: 最大40mm □
オプション: サーマルインプリント用ベークプレートユニット
敬具
平成21年3月吉日
リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一
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