| 開催期間 |
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2009年7月29日(水)〜31日(金) 午前10時〜午後5時 |
| 展示会場 |
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東京ビックサイト 東5ホール |
| ブースNo. |
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東5ホール【E-10】 |
| 主催 |
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財団法人マイクロマシンセンター |
拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。
さて、リソテックジャパンは、2009年7月29日(水)から31日(金)までの3日間、
東京ビッグサイトにて開催される「第20回マイクロマシン/MEMS展」に出展いたします。
今回は、MEMSリソグラフィプロセスに関連しました塗布・現像・ベーク装置、UV/サーマルナノインプリント装置、
米国Foothill社製膜厚測定装置等の実機を展示しご紹介いたします。
また、会期中にご要望される仕様やご予算に合わせたシステム等のご相談もお受けいたします。
ぜひとも弊社ブース【東5ホールE-10】へお立ち寄りくださいますようお願い申し上げます。
敬具
平成21年6月吉日
リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一
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