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2009年12月2日(水)〜4日(金) |
| 開催時間 |
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10:00〜17:00 |
| 展示会場 |
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幕張メッセ国際展示場・国際会議場・イベントホール |
| ブースNo. |
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4A-306 |
お客様各位
拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
また、平素は格別のご高配を賜り厚くお礼申し上げます。
弊社リソテックジャパンは本年も昨年同様【セミコンジャパン2009】に出展させていただくことになりましたのでご連絡申し上げます。
今回弊社では、下記の半導体プロセスやMEMSリソグラフィプロセスに関連した低価格・コンパクトな装置を展示する予定です。
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セミオートスピンコーター
Litho Spin Cup 800C
自動滴下/エッジリンス対応
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ナノインプリント装置
LTNIP-500
簡易型UV/サーマル実験装置
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米国Foothill社製膜厚測定装置
KV-300/KF-10
500μm厚膜非接触測定
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Reticle 静電気測定器
E-Reticle
In-Situ電磁場測定システム
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会場ではリソグラフィに特化した解析･検査･製造のツール（コータ･デベ
ロッパ、レジスト解析評価装置、ダブル・パターニング評価用マスク、プ
ロセス解析用露光装置、露光装置用測定ツール、リソグラフィ・シミュレ
ータ等）を中心とした製品をご紹介いたしますので、ぜひとも弊社ブース
(4A-306)へお立ち寄りくださいますようお願い申し上げます。
敬具
平成21年11月吉日
リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一
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