| 開催期間 |
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2010年7月28日(水)〜30日(金) 午前10時〜午後5時 |
| 展示会場 |
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東京ビックサイト 東5・６ホール |
| ブースNo. |
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東5ホール【D-16】 |
| 主催 |
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財団法人マイクロマシンセンター |
拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。
さて、リソテックジャパンは、2010年7月28日(水)から30日(金)までの3日間、
東京ビッグサイトにて開催される「第21回マイクロマシン/MEMS展」に出展いたします。
今回弊社では、MEMSフォトリソグラフィに関連しました塗布・現像・ベーク装置、UV/サーマルナノインプリント装置、米国Foothill社製膜厚測定装置、米国Neutronix-Quintel社製マスクアライナをご紹介いたします。また、密閉型ウェーハ両面スピンコータと小型ナノインプリント装置の実機や処理済みサンプル基板を展示いたします。
会期中は、貴社ご要望に合わせたシステムをご提案いたしますので、ぜひとも弊社ブース【東5ホールD-16】へお立ち寄りくださいますようお願い申し上げます。
敬具
平成22年7月吉日
リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一
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