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2011年 11月 15日

【SEMICON Japan 2011】のご案内

開催期間	：	2011年12月7日(水)～9日(金)
開催時間	：	10:00～17:00
展示会場	：	幕張メッセ国際展示場・国際会議場・イベントホール
ブースNo.	：	6B-406

お客様各位

拝啓時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。

さて、弊社リソテックジャパンは本年も昨年同様【セミコンジャパン2011】に出展させていただくことになりましたのでご連絡申し上げます。
今回弊社では、以下の半導体プロセスやMEMSリソグラフィプロセスに関連した装置を展示します。

　

PROLITH ArFES-3500LP Minimal

リソグラフィ・シミュレータ
PROLITH

[確率論的モデルを搭載]

レジスト解析用ArF露光装置
ArFES-3500LP

[アウトガス捕集機能を搭載]

小型基板対応レジスト塗布・現像装置
ミニマル・コータ・デベロッパ

[0.5インチ基板対応]

会場ではリソグラフィに特化した解析･検査･製造のツール（コータ･デベロッパ、レジスト解析評価装置、露光装置用測定ツール、リソグラフィ・シミュレータ等）を中心とした製品をご紹介いたします。ぜひ弊社ブース(6B-406)へお立ち寄りくださいますようお願い申し上げます。

敬具

平成23年11月吉日

リソテックジャパン株式会社
代表取締役　南　洋一