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Foothill社製 レジスト膜厚測定装置
従来、安定した膜厚測定が困難とされていた超厚膜レジストを非接触で高精度な測定ができます。
また、標準搭載の自動マッピング機能は、高精度自動ステージにより基板の面内膜厚分布をスピーディに表示します。KV-300は、自動R-θステージ採用により、300mm基板に対応しながらもフットプリントを最小限に抑えた設計になっています。
Foothill社http://www.foothill-instruments.com//
■ラインアップ
モデル KV-300写真
測定画面
300mmウェーハ用自動膜厚測定装置KV-300

多種類基板、不定形基板から最大300mmΦ基板まで対応した、自動ステージ及びマッピング機能搭載装置です。測定膜厚の範囲は4タイプあり、最大500μmまで非接触で測定が可能です。また、基板吸着機能と膜厚測定ポイント・モニタ機能を採用し、反り基板の測定に威力を発揮するとともに、測定ポイントの確認が可能です。        

測定膜厚範囲: 仕様A…0.08〜200μm
仕様B…0.10〜350μm
仕様C…0.20〜500μm
仕様D…0.04〜40μm

モデル KV-300写真 自動膜厚測定装置KF-10

最大200mmΦ基板に対応した、自動ステージ及びマッピングソフト搭載装置です。
 測定膜厚範囲:0.08〜160μm


マニュアル膜厚測定装置KF-10m

ステージ固定型の低価格モデルです。
測定膜厚範囲:0.08〜160μm


基板厚さ測定装置Si-71

非接触にて、シリコン/GaAs/InP/ガラスなど各種基板の厚さを自動測定する装置です。
不定形基板から最大300mmΦ基板まで対応する基板吸着式自動ステージを搭載し、基板の厚さ面内分布を容易に出力可能です。
 測定範囲:20〜500μm(シリコンウェーハ)