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自動レジスト塗布・現像ベーク装置 LITHOTRACシリーズ
弊社独自に、研究開発用途から量産用途まで、ウエーハ製造プロセスのあらゆる部門に適応可能な装置開発を進めてきたレジスト塗布・現像・ベーク装置です。お客様のご要望に適応した自由度の高い設計に努め、もはや仕様のカスタマイズは特別注文ではないという設計思想が、多くのお客様からご好評をいただいております。
■ラインアップ
モデルCB-50写真 モデルCB-50(全自動コーター・ベーク)

自動レジスト塗布・ベーク装置。レジスト塗布モジュール、ベーク・モジュール、クーリング・モジュール、基板搬送用ロボットを搭載した装置です。
塗布精度の向上を目的としたオプションとして、塗布室の雰囲気温湿調、レジスト温調、スピンモータ温調などの各種温度制御機器を搭載することが可能です。また、基板処理の待機時間ばらつきを最小限に制御するタスク管理プログラムにより、熱履歴の変動制御が可能です。基板サイズは最大300mmΦまで対応し、不定形基板にも対応可能な自由度の高い、高性能装置です。


モデルDB-50(全自動現像ベーク)

自動レジスト現像・ベーク装置。レジスト現像モジュール、ベーク・モジュール、クーリング・モジュール、基板搬送用ロボットを搭載した装置です。
現像精度の向上を目的としたオプションとして、現像液温調、スピンモータ温調などの各種温度制御機器を搭載することが可能です。また、基板処理の待機時間ばらつきを最小限に制御するタスク管理プログラムにより、熱履歴の変動制御が可能です。基板サイズは最大300mmΦまで対応し、不定形基板にも対応可能な自由度の高い、高性能装置です。


モデルDual-1000(全自動コーター・現像・ベーク装置)

自動レジスト塗布・現像・ベーク装置。レジスト塗布モジュール、レジスト現像モジュール、ベーク・モジュール、クーリング・モジュール、基板搬送用ロボットを搭載した装置です。モデルCB-50とDB-50を1台にまとめました。