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Quintel社製 高性能マスクアライナー
米国Neutronix Quintel社のリソグラフィにおける豊富な経験と実績から生み出された高性能マスクアライナは、対応基板別に4つのモデルをラインアップしています。いずれもMEMS/マイクロマシン、パッケージ加工、パワーデバイス、半導体、LED、各種センサなど、幅広いお客様のご要望に合わせたカスタマイズできる点が特長です。
Neutronix Quintel社http://www.quintelcorp.com/
■ラインアップ
モデルEXPO line 7k8写真 NXQ7500

通常の基板表面アライメント機能に加え、基板裏面アライメント機能(IR方式とCCDカメラ方式)を搭載し、自動アライメントと基板の自動搬送に対応した装置です。露光モードは、プロキシミティ露光、バキューム・コンタクト露光、ハード・コンタクト露光、ソフト・コンタクト露光を備え、いずれも部品交換することなく対応可能です。また、基板は最大8インチΦまで対応し、不定形基板にも対応可能な自由度の高い、高性能装置です。


モデルEXPO line 4k6写真 NXQ4000-6
フット・プリントが小さく、不定形の数o基板から最大6インチΦ基板まで対応可能なマニュアル装置です。通常の基板表面アライメント機能に加え、IR式基板裏面アライメント機能を搭載しています。露光モードは、バキューム・コンタクト露光、ハード・コンタクト露光、ソフト・コンタクト露光を備え、いずれも部品交換することなく対応可能な自由度の高い装置です。

モデルEXPO line 4k4写真 NXQ4000-4
フット・プリントが小さく、不定形の数o基板から最大4インチΦ基板まで対応可能なマニュアル装置です。アライメント機能、露光モードに関する特長は、上記モデルと同様です。

モデルEXPO line 1.2k写真 NXQ1200
露光照明系を基板の表面方向と裏面方向に搭載し、マスクを基板の両面にセットすることによって、両面一括露光を可能とした装置です。最大200mmΦ基板まで対応可能です。