これまでのフォーカス決定法では、フォーカスを振って多数の露光を行うことが必要でした。露光と現像処理を多数行い、得られたデータ（最狭残留ピンバーまたは潜像コントラスト）とフォーカス・オフセットの関係をプロットします。この方法は時間がかかるうえ、結果はオート・フォーカス・オフセット機能の精度に依存します。これに代わる方法として、レジストを使わずに光学像を測定する方法が使われていますが、この方法ではウエーハの平坦度などの重要な問題が考慮されません。
Benchmark のPhase Shift Focus Monitorには、IBMが開発した特許出願中の最先端のPhase Shift Mask （PSM） 技術が利用されています。