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●UVES-2000（g/h/i/248nmおよびブロード光対応解析露光装置）
高圧水銀ランプを搭載し、フィルタにより436、405、365、248nmの光を取り出し、露光することが可能です。
また、ブロード光での露光も行えます。オプションとしてアウトガス捕集ユニット、In-situ透過率測定機能（ABCパラメータ測定）があります。
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●UVES-2500（g/h/i/248nmおよびブロード光対応レジスト感度評価露光装置）
UVES-2000にローダーアンローダー、ロボット搬送機能を付けた自動機。レジストの感度評価に威力を発揮します。標準は露光エリア5mm□ で100ショットとなります。
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●ArFES-3500LP（193nm対応解析露光装置）
VUVES-4500で用いているレーザー光源の代わりに、ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。レーザー光源のような、
大がかりなガス供給システムを必要とせず、場所を選ばず設置可能。
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●VUVES-4500mini（248・193nm対応解析露光装置）
エキシマレーザを搭載し、発振ガスにより248、193nmの光を取りだし、露光することが可能です。オプションとしてアウトガス捕集ユニット、
透過率測定機能（AB パラメータ測定）があります。（露光エリア：10×10mm）
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●IMESq-5500（193nm液浸露光対応QCM解析装置）
エキシマレーザを搭載し、193nmの露光を行いながら液浸露光中のレジスト膜の超微量な質量変化をQCM法により解析できます。液浸露光対応フォトレジストの解析やカバー膜の評価に威力を発揮します。
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●EBES-6000（電子線対応解析露光装置）
レジスト解析露光用電子線露光装置です。加速電圧を1〜100KeV可変し、露光することが可能です。専用のステンシルマスクを使うと、パターニングも可能です。（露光エリア：10mm×10mm）
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●EUVES-7000（EUV光対応解析露光装置）
Energetiq Technology社製EQ-10M EUV Sourceを搭載し、EUV（13.5nm）露光が可能です。オプションとしてレジストのアウトガス補集機能があります。（露光エリア：10mm×10mm）
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フォトプロセス解析露光装置シリーズ カタログ