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| ●会社沿革 |
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平成5年10月 |
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リソテックジャパン株式会社を資本金1,000万円で設立 |
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平成6年1月 |
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本社を川口市に移転 |
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平成7年1月 |
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三和ベンチャー育成資金より、自動薬液濃度管理装置の開発に関して助成金を受ける |
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平成7年6月 |
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米国Benchmark Technologies社と代理店契約を締結 |
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平成7年12月 |
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財団法人中小企業ベンチャー振興基金より、高精度現像パラメータ測定システムの開発に関して助成金を受ける |
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平成8年6月 |
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日本工業新聞社主催 中小企業ニューフロンティア賞大賞受賞（最優秀製品賞） |
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平成9年1月 |
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1,000万円増資し、資本金を2,000万円とする |
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平成9年2月 |
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東京中小企業投資育成(株)の出資を得て資本金を4,000万円とする |
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平成9年4月 |
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埼玉県より創造的事業活動促進費補助金を受ける |
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平成11年3月 |
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米国LITEL社と代理店契約を締結 |
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平成11年9月 |
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三和ベンチャー育成基金より真空紫外光リソグラフィ用フォトレジスト解析システムの
開発に対して債務保証を受ける |
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平成12年10月 |
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米国QUINTEL社（現 米国Neutronix-Quintel社）製品の取り扱いを開始 |
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平成14年5月 |
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UFJ ベンチャー育成基金より液体及び高分子ゲル層モニター用水晶振動子マイクロバランス装置の開発に対して債務保証を受ける |
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平成14年12月 |
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米国Foothill社製品の取り扱いを開始 |
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平成17年2月 |
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米国Transfer Devices社製品の取り扱いを開始 |
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平成17年5月 |
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米国KLA-Tencor社PAD事業部製品の取り扱いを開始 |
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平成17年6月 |
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米国Energetiq Technology社製品の取り扱いを開始 |
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平成17年7月 |
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米国Petersen Advanced Lithography社製品の取り扱いを開始 |
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平成18年8月 |
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米国EUV Technology社製品の取り扱いを開始（2011年4月まで） |
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平成19年3月 |
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「チームマイナス 6％」に参加 |
