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リソテックジャパン株式会社 Solution NetWork Papers Profile Contact Us Site Map
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Solution 各種装置とソフトウェア製品の開発・販売から、コンサルティング及び受託サービスまで。

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Resist Analysis System／レジスト解析システム

◆ 解析装置関連
●レジスト現像アナライザRDAシリーズ
　RDA-760／RDA-760Spin／RDA-790／RDA-800／RDA-QZ3

●フォトプロセス解析露光装置
　UVES-2000／UVES-2500／ArFES-3500LP／VUVES-4500mini／
　IMESq-5500／EBES-6000／EUVES-7000

●ナノインプリント装置
　LTNIP-500／LTNIP-2000／LTNIP-5000／LTNIP-7000

●ナノインプリント関連周辺装置
　WEX-200／WMA-600

●レジスト評価ツール
　PAGA-100／ProxSim II

●リソグラフィ・シミュレータ（KLA-Tencor社製）
　PROLITH／ProDATA／ProBEAM／LithoWare

◆ 受託測定・受託研究
Lithography Process System／プロセス処理システム
●自動レジスト塗布・現像・ベーク装置LITHOTRACシリーズ
　CB-50／DB-50／Dual-1000

●マニュアル・ベーク・クーリングLWBシリーズ
　LWB-03／LWB-03P／APPS-30／APPS-40

●マニュアル・レジスト塗布現像装置Litho Spin Cupシリーズ
　LSC-800C／LSC-800D／LSC-QZ1／LSC-400C／LSC-400D

●膜厚測定装置／ウェーハ膜厚測定装置（Foothill社製）
　KV-300／KF-10／KF-10m／Si-71

●高性能マスクアライナ（Neutronix Quintel社製）
　NXQ7500／NXQ4000-6／NXQ4000-4／NXQ1200

●高解像転写プロセス技術：MxL（Transfer Devices, Inc.社製）
Exposure Analysis Tool／露光解析ツール
●半導体露光装置測定システム（Litel Instruments社製）
　InspecStepTM干渉計［InspecStepTM Interferometer （ISITM）］
　光源測定装置［Source Metrology Instrument （SMITM）］

●半導体露光装置用フォト・マスク（Benchmark Technologies社製）
　Phase Shift Focus Monitor Reticle
　Universal Matching Reticle
　EZProbe Reticle
　Cleave Reticle
　Process Defect Monitor Reticle
　OPC Products and services
　Defect Sensitivity Monitor Reticle
EUV Light Source System／EUV 光源
●EQ-10M EUV Source（Energetiq Technology社製）