化学増幅型レジストから厚膜レジストまで各半導体デバイス製造工程毎に柔軟にカスタマイズできる多機能、高精度なマニュアルスピン塗布装置です。
少量多品種生産に加え、研究機関のデバイス開発用、半導体製造装置メーカーのプロセス評価用、薬液メーカーや基板メーカーの材料評価用、デバイスメーカーの条件出しや材料選定用として多く採用いただいています。

自動装置と同様に吐出ラインの系統数が指定することができ、EBR（エッジビードリムーバ）、BSR（バックサイドリンス）や排気オートダンパがついています。さらにレジスト温調、ファンフィルタユニット、ケミカルフィルタ、塗布チャンバ内の雰囲気温調・湿度制御等用途に応じた各種オプションを用意しています。基板サイズは、不定形の小型基板から最大φ450mmウェーハまでマルチに対応させることが可能です。

マニュアルのスピン現像装置です。各種現像方式に対応します。有機現像仕様等の各種モデルをとり揃えています。

ストリームノズル、スリットノズル、スプレーノズル等やプログラマブルスイングアームにより、目的に応じた現像/リンス処理が行えます。

300mmウェーハまで対応した塗布装置です。450mm対応モデルLitho Spin Cup 450Cもライナップしています。

用途区分：　マニュアル/セミオート　塗布

機能：　300mmセミオートスピンコータ

各種プロセスに応じた現像方式に適応できる300mmウェーハ現像装置です。

300mmウェーハにおけるレジストパターンの線幅制御や面内線幅均一性向上のための条件出しが手軽に行えます。研究開発用途や少量多品種デバイス生産等で使用されています。

低価格、コンパクトなマニュアルレジスト塗布装置です。実験や開発用として手軽にハンドディスペンスが行えます。また、オートディスペンサを搭載することが可能です。

ウェーハをセットした後に、簡単にかつ安全にパドル現像、リンス処理が自動で行えるマニュアルアルカリ現像装置です。

本装置は、QCM(Quartz Crystal Microbalance)基板専用のマニュアルレジスト塗布装置です。
通常のスピン塗布装置では難しい極小基板(φ14mm及びφ25mm)に対し、自動ディスペンスによるレジスト塗布が行えます。