光干渉式膜厚測定装置では難しい薄い透過膜の厚さや光学定数の測定が簡単に行える分光エリプソメータです。ArF液浸露光等の薄膜レジストや反射防止膜、EBレジスト、EUVレジスト等塗布後の膜厚管理やウェーハ面内膜厚分布評価にご使用いただけます。
また、レジスト現像アナライザによる現像速度解析評価における残膜の膜厚測定に有効です。