レジスト評価システム

フォトプロセス解析露光装置 

フォトレジストの研究開発用露光ツールです。
ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。
露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることにより、露光中のレジストからのアウトガスの成分分析が可能となります。

g線、h線、i線、248nm(KrF)、ブロード光 露光装置

UVES-2000

概要

実験用オープンフレーム露光装置です。
Hg-Xeランプを搭載し、フィルタにより248nm, 365nm, 405nm, 436nm およびブロード光での露光が可能です。

特長

露光波長:    248nm, 365nm, 405nm, 436nm、およびブロード光
照度:      5 mW/cm²
露光エリア:   □10 mm/25 ショット
オプション:   ABCパラメータ測定機能
         アウトガス捕集機能

UVES-2000
関連画像

解析ソフト


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 露光装置シリーズ カタログ


g線、h線、i線、248 nm(KrF)、ブロード光 露光装置  高照度/自動搬送仕様

UVES-2500

概要

実験用オープンフレーム露光装置です。
Hg-Xeランプを搭載し、フィルタにより 248nm, 365nm, 405nm, 436nm およびブロード光での露光が可能です。
UVES-2000 の高照度・自動搬送タイプです。

特長

露光波長:    248nm, 365nm, 405nm, 436nm、およびブロード光

照度:      50 mW/cm²
露光エリア:   □10 mm/25 ショット
         および □5 mm/100 ショット
オプション:   ABCパラメータ測定機能
         アウトガス捕集機能


193 nm(ArF) 露光装置

ArFES-3000

概要

実験用オープンフレーム露光装置です。
ArFエキシマレーザーを搭載し、193nm での露光が可能です。

特長

露光波長:    193nm
照度:      1mW/cm²
露光エリア:   □10mm/25 ショット
オプション:   ABCパラメータ測定機能
         アウトガス捕集機能


電子線露光装置

EBES-6000

概要

実験用オープンフレーム露光装置です。
E-gunを搭載し、加速電圧を変化させたEB露光が可能です。

特長

露光波長:    電子ビーム(EB)
照度:      1μC/cm²
加速電圧:    1 〜 100KeV(1kev 刻み)
露光エリア:   □5 mm/9 ショット


EUV露光装置

EUVES-7000

概要

実験用オープンフレーム露光装置です。
ディスチャージ型EUV光源(Energetiq社製)を搭載し、13.5nm での露光に対応します。

特長

露光波長:    13.5nm
照度:      0.03mW/cm²
露光エリア:   □10mm/12 ショット(サークル状)
オプション:   ABCパラメータ測定機能

         RGA

EUVES-7000
関連画像

露光後ウェーハ


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 露光装置シリーズカタログ


自動搬送EUV露光装置

EUVES-9000

概要

実験用オープンフレーム露光装置です。
ディスチャージ型EUV光源(Energetiq社製)を搭載し、13.5 nm での露光に対応します。
EUVES-7000 の自動搬送タイプです。PEB HPが搭載されており、露光後速やかにPEBを行ないます。また、RGAを標準搭載し、露光中のアウトガス分析に威力を発揮します。

特長

露光波長:    13.5 nm
照度:      0.03 mW/cm²
露光エリア:   □10 mm/12 ショット(サークル状)
オプション:   Bパラメータ測定機能


EUVアウトガス評価装置

EUVOM-9000

概要

CG(Contamination Growth)の観測により、EUVレジストからのアウトガスの定量的な評価が行えます。EUV光源の代わりに電子ビームを用いています。EUVレジストのアウトガス評価では、標準的に使用されています。

特長

露光波長:    EB
照度:      0.1 - 5 μC/cm²
露光エリア:   300mmウェーハ上に複数の同心円状

CGエリア:   φ2 mm

RGA標準搭載


EUVミラーUVオゾンドライクリーナ

LUVC-5000

概要

148 nm の低圧水銀灯により、基板のドライ洗浄を行ないます。
EUV反射ミラーのドライ洗浄に有効です。

特長

照射波長:    148 nm UVオゾン
照度:      50 mW/cm²
照射エリア:   φ50 mm

オゾン濃度計標準搭載
ファイバカメラ標準搭載

LUVC-5000
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チャンバー内


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