ナノインプリント

ナノインプリント装置 及び関連装置 

近年、低コストで高解像性が望めるナノインプリント技術が注目を集めています。当社では、樹脂やナノインプリントプロセス評価用など、用途に合わせたナノインプリント評価装置をラインアップしております。

実験用簡易UVナノインプリント装置

LTNIP-500

概要

実験用簡易UVナノインプリント装置です。
プレスしながらUV照射を行ないます。

特長

モールドサイズ: 25 mm 〜 40 mm
ウェハサイズ:  4 インチ 〜 6 インチ Si
UV照度:    0.5 mW/c㎡

オプション:   HP機能、脱気ユニット


熱・UVハイブリッド・ナノインプリント装置

LTNIP-5000

概要

実験用熱・真空UVナノインプリント装置です。
最大 9,999 N まで対応し、プレスしながら加熱、UV照射(真空対応)を行ないます。

特長

モールドサイズ: 25 mm 〜 40 mm
ウェハサイズ:  4 インチ 〜 6 インチ Si
ベーク:     室温 〜 200 ℃
プレス圧:    100 〜 9,999 N
         0.1 N 刻みで設定可能
UV照度:    5 mW/c㎡

真空ポンプ、HP冷却機能搭載


ロール型熱・UVハイブリッド・ナノインプリント装置

LTNIP-7000

概要

実験用平板・ロール型 熱・UVナノインプリント装置です。
最大 9,999 N まで対応し、プレスしながら加熱、UV照射を行ないます

特長

モールドサイズ: 最大 50 mmΦ(平板)
ロールサイズ:  幅 100 mm(巻き取り式)
ベーク:     室温 〜 150 ℃
プレス圧:    100 〜 9,999 N
         0.1 N 刻みで設定可能
UV照度:    5 mW/c㎡

オプション:   反射率測定による不良率測定ユニット
         (モスアイプリント時)


インプリント用一括露光装置

WEX-200

概要

ナノインプリント後の基板一括露光装置です。
Hgランプを搭載し、フィルターにより246,365,405,436nmおよびブロード光に対応します。

特長

露光波長:    246, 365, 405, 436 nm、および ブロード光 
照度:      50 mW/c㎡
露光エリア:   125 mmΦ


インプリント用アライナ

WMA-600

概要

ナノインプリント用のモールド・基板アライメント装置です。
顕微鏡を2基搭載し、左右のアライメントマークをジョイスティックで操作して合わせます。その後、モールド・基板の位置をロックし、ナノインプリント装置を用いてインプリント処理が行えます。

特長

顕微鏡:     2 基 最大 20 倍
合わせ精度:   15 μm以下

PC標準搭載

ウェハサイズ:  4, 5, 6 インチ Φ